【摘 要】
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为了研究钛掺杂对Cu3N薄膜特性的影响,利用射频和直流反应共溅射方法,在硅（100）和ITO玻璃衬底上,成功制备了不同Ti掺杂量的Cu3N薄膜（Ti-Cu3N薄膜）.通过X射线衍射（XRD）发现,Ti-Cu3N
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（51272224,11164031）
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为了研究钛掺杂对Cu3N薄膜特性的影响,利用射频和直流反应共溅射方法,在硅（100）和ITO玻璃衬底上,成功制备了不同Ti掺杂量的Cu3N薄膜（Ti-Cu3N薄膜）.通过X射线衍射（XRD）发现,Ti-Cu3N薄膜的结晶度均低于未掺杂的Cu3N薄膜,但是随着Ti掺杂量的增加,结晶度增强.Ti-Cu3N薄膜的晶格常数随着Ti掺杂量的增加先增后减,但均接近于Cu3N的理论值.扫描电子显微镜（SEM）图片显示,随着Ti掺杂量的增加,薄膜表面变得粗糙,晶粒大小变得均匀.薄膜的微观硬度在Ti掺杂量为1.86at%时
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