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摘要：采用纯铪（Hf）金属靶，在氧＋氩反应气氛中进行了HfO2薄膜直流反应磁控溅射沉积。首先在单晶硅片上沉积薄膜，研究工艺参数改变对薄膜的影响，然后选择较优的工艺在金刚石表面沉积符合光学厚度的薄膜，达到增透减反射效果。利用X射线光电子能谱（XPS）研究了O2／Ar比例对薄膜组成的影响。利用X射线衍射仪（GIXRD）和椭偏仪（EHipsometer）研究了不同衬底温度对氧化铪薄膜组织结构和光学性能的影响。采用傅立叶红外光谱仪（FTIR）检测了镀膜前后金刚石红外透过性能，发现双面镀制HfO2薄膜能够有效提高金