【摘 要】
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利用磁控溅射在250℃的MgO（220）单晶基片上先后沉积Cr（100 nm）下底层和不同厚度（9~80 nm）的Co-11%W（原子分数）磁性层,二者取向附生生长关系为Cr（112）[111]∥Co-W（1010）[1210]和Cr（112）[110]
【机 构】
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东北大学材料各向异性与织构教育部重点实验室,东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室
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利用磁控溅射在250℃的MgO（220）单晶基片上先后沉积Cr（100 nm）下底层和不同厚度（9~80 nm）的Co-11%W（原子分数）磁性层,二者取向附生生长关系为Cr（112）[111]∥Co-W（1010）[1210]和Cr（112）[110]∥Co-W（1010）[0001].随着膜厚的增加,Co-W在薄膜面内的压应变（ε〈0）由-0.388 4%减小到-0.271 1%,Co-W在薄膜法线方向拉应变（ε〉0）从0.781 3%减小到0.544 5%,相应地其有效磁晶各向异性能一级常数Ke1f
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