基于MEMS技术MOSFETs硅桥结构磁传感器特性仿真与制作工艺

来源 :黑龙江大学工程学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jingqihao
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给出一种MOSFETs硅桥结构磁传感器,在方形硅膜上表面的不同位置设计4个p-MOS-FETs,沟道电阻构成惠斯通电桥结构,并在方形硅膜上表面中央位置制作铁磁材料。通过采用ANSYS有限元软件建立磁传感器仿真模型,仿真结果表明,外加磁场作用下,铁磁材料受到磁场力,使硅膜发生弹性形变,产生桥路输出电压,实现对外加磁场的检测。基于仿真结果,采用CMOS工艺和MEMS技术设计、制作MOSFETs硅桥结构磁传感器,实验结果表明,当工作电压为1.0V时,满量程输出为0.69mV,灵敏度为1.54mV/T,准确度为3
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