有机透明导电膜的制造法

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随着光电子学时代的到来,兼有导电及透明性的透明导电膜的需要正在剧增。它正被利用于液晶,电子显示器件、摄像管、太阳能电池,冷冻商品陈列橱的防霜等。此外,利用它反射红外线的特点还应用于窗材各个领域。过去的透明导电膜是把金、钯等金属用真空蒸镀(厚度约1000nm)在玻璃或聚酯薄膜上或用氧化铟,氧化锡,氧化锌等氧化物半导体,使用真空蒸镀或溅射、离子镀、CVD(化学气相淀积)等法在玻璃或高分子化合物上获得透明导电膜。这些方 With the advent of the optoelectronics era, the need for both transparent and conductive conductive films is on the rise. It is being used in liquid crystal, electronic display devices, camera tubes, solar cells, anti-frost in refrigerated showcases and the like. In addition, the use of it reflects the characteristics of infrared is also used in all areas of the window. In the past, the transparent conductive film was formed by depositing a metal such as gold or palladium on a glass or polyester film by vacuum evaporation (thickness: about 1000 nm) or using an oxide semiconductor such as indium oxide, tin oxide, zinc oxide or the like by vacuum evaporation or sputtering , Ion plating, CVD (chemical vapor deposition) and the like are used to obtain a transparent conductive film on a glass or a polymer compound. These parties
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