插入Bi层对NiFe／Cu／NiFe／FeMn自旋阀多层膜交换耦合的影响

• 作 者: 朱逢吾 李明华 等
• 机 构: 北京科技大学材料物理系,中国科学院物理研究所
• 出 处: 金属学报
• 发表日期: 2002年6期
• 关键词: 层间偏聚 交换耦合场 表面活化原子 BI XPS interlayer segregation exchange coupling field surfac
• 基金项目: 国家自然科学基金19890310,,北京市自然科学基金2012011资助项目

对于NiFe/Cu/NiFe/FeMn自旋阀多层膜，Cu原子偏聚到NiFe/FeMn界面将导致自旋阀多层膜中NiFe/FeMn的交换耦合Hex下降，然而，少量的表面活化原子Bi被沉积到Cu层和被钉扎NiFe层之间。Cu原子在NiFe/FeMn界面的偏聚可以被抑制。而且，更重要的是Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜中的交换耦合场Hex可以被有效地提高。