JK—1型半自动接近式光刻机工艺试验报告

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一、前言 JK-1型接近、接触两用半自动光刻机,是光电所同志们三年来积极努力、辛勤劳动的结晶,是一项重大研究成果。为了对机器性能做初步了解和判断。80年10月份,我所派出两位同志在光电所进行了为期两个多月的光刻机性能指标初步工艺试验。并于 I. Introduction JK-1 type approaching, contact with dual-use semi-automatic lithography is photoelectric comrades in the past three years, active efforts, the crystallization of hard work is a major research achievement. In order to make a preliminary understanding of the machine performance and judgment. In October 1980, two comrades, whom I sent, conducted a preliminary technological experiment on performance indicators of lithography machines at the Photoelectric Power Station for more than two months. And at
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