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对Q值的影响因素进行了分析，得出耦合系统的3个关键耦合状态，欠耦合、临近耦合和过耦合；通过拉制纳米光纤锥和搭建耦合系统对微盘腔进行了测试，得到Q值为3．2×10^5。
光学微腔品质因数的测试
【摘 要】
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对Q值的影响因素进行了分析，得出耦合系统的3个关键耦合状态，欠耦合、临近耦合和过耦合；通过拉制纳米光纤锥和搭建耦合系统对微盘腔进行了测试，得到Q值为3．2×10^5。
【机 构】
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中北大学电子测试技术国防重点实验室
【出 处】
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四川兵工学报
【发表日期】
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2011年4期
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（60778029）
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