退火对ZnO薄膜光学特性的影响

• 作 者: 张锡健 王国强 王卿璞 龚小燕 吴小惠 马洪磊
• 机 构: 山东大学物理学院
• 出 处: 发光学报
• 发表日期: 2008年3期
• 关键词: ZNO薄膜 射频磁控溅射 退火 ZnO films RF magnetron sputtering annealing

用射频磁控溅射法在蓝宝石衬底上制备出ZnO薄膜，通过X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）和光致发光（PL）谱等研究了退火温度对ZnO薄膜结构和光学性质的影响。测量结果显示，所制备的ZnO薄膜为六角纤锌矿结构，具有沿c轴的择优取向；随着退火温度的升高，（002）XRD蜂强度和平均晶粒尺寸增大，（002）XRD峰半高宽（FWHM）减小，光致发光紫外峰强度增强。结果证明，用射频磁控溅射法通过适当控制退火温度可得到高质量ZnO薄膜。