【摘 要】
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本文主要研究(TiZr)N硬质膜的沉积工艺波动范围及影响。考察了阴极靶电流、N_2气流量等工艺参数对膜层组织和性能的影响。研究表明,沉积工艺参数的波动变化不会对膜层组织、
【机 构】
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沈阳大学机械工程学院,沈阳真空技术研究所,
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本文主要研究(TiZr)N硬质膜的沉积工艺波动范围及影响。考察了阴极靶电流、N_2气流量等工艺参数对膜层组织和性能的影响。研究表明,沉积工艺参数的波动变化不会对膜层组织、力学性能产生明显影响。(TiZr)N硬质膜的沉积工艺参数可以有较大的波动范围,沉积工艺窗口具有良好的可应用性。
This paper mainly studies the fluctuation range and influence of deposition process of (TiZr) N hard film. The effects of cathode target current and N 2 gas flow rate on the microstructure and properties of the coatings were investigated. The research shows that the variation of deposition process parameters will not affect the microstructure and mechanical properties of the coatings significantly. (TiZr) N hard film deposition process parameters can have a larger range of fluctuations, deposition process window has good applicability.
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