【摘 要】
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介绍了永磁端引出溅射ＰＩＧ离子源的进展状况，通常它可用于引出气体的与金属的单或多电荷离子，在２０－３０ｋＶ的引出电压下，可引出ｍＡ级的气体离子和数十微安的金属离子，功耗小于５０Ｗ。同时也可用于直接引
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介绍了永磁端引出溅射ＰＩＧ离子源的进展状况，通常它可用于引出气体的与金属的单或多电荷离子，在２０－３０ｋＶ的引出电压下，可引出ｍＡ级的气体离子和数十微安的金属离子，功耗小于５０Ｗ。同时也可用于直接引出某些电子亲合势较强的气体元素，如Ｈ、Ｏ、Ｆ等的负离子。当采用ＬａＢ６阴极，在１５－２０ｋＶ的引出电压下，引出的总束流中，Ｈ－离子＞５０μＡ，０－离子接近１．４ｍＡ和Ｆ－离子可达１．８ｍＡ，功耗分别为４０、５０和７５Ｗ左右。
The progress of the sputter PIG ion source at the permanent magnet end is introduced. Usually it can be used to extract gas and metal single or multiple charge ions. Under the voltage of 20-30kV, Microampere metal ions, power consumption is less than 50W. At the same time can also be used for direct leads to some of the electron affinity strong gas elements, such as H, O, F and other negative ions. When using LaB6 cathode, the total current drawn at 15-20 kV leads to> 50 μA H-, 0- ions close to 1.4 mA and F- ions up to 1.8 mA with power dissipation of 40, 50 and 75W or so.
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