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锆钛酸铅（PZT）厚膜的制备技术是制作基于PZT厚膜的微传感器和微驱动器的关键技术之一．传统的制备方法难以兼顾厚膜制备中对厚度、性能、工艺复杂度以及成本等方面的要求，因此，提出了一种新的利用气雾化湿法减薄体材料制备PZT厚膜的技术．该技术结合传统的PZT湿法化学刻蚀方法和刻蚀雾滴的物理轰击效应，在反应中实时去除化学反应残留物，在减薄前后样品厚度均匀性几乎不变的情况下，平均刻蚀速率可达3．3μm/min，且工艺过程简单，成本低廉．实验结果表明，用该技术制备的PZT厚膜可满足微机电系统（MEMS）领域中微传感