【摘 要】
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铬版机制版过程中,一个至关重要的因素是照明条件。本文重点介绍采用了光学传光束的双弧光源照明器。它已用于铭版机,在10mm×10mm的成像面积内,获得了较高的照明均匀性(不均
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铬版机制版过程中,一个至关重要的因素是照明条件。本文重点介绍采用了光学传光束的双弧光源照明器。它已用于铭版机,在10mm×10mm的成像面积内,获得了较高的照明均匀性(不均匀性<±3%)和大于35OmW/cm~2的曝光能量,亦能用于Stepper。此外,还具有加工方便、调整简单、成本低、体积不大等优点,是一个较为实用的光学照明曝光系统。
Chromium plate machine version of the process, one of the most important factor is the lighting conditions. This article focuses on dual arc source illuminators that use an optical transmission beam. It has been used in the Ming version of the machine, in the 10mm × 10mm imaging area, access to a higher illumination uniformity (non-uniformity of ± 3%) and greater than 35OmW / cm ~ 2 exposure energy can also be used for Stepper . In addition, it also has the advantages of convenient processing, simple adjustment, low cost and small volume, which is a more practical optical lighting exposure system.
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