【摘 要】
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讨论等离子体刻蚀及其等离子体源在微电子工业中的作用,介绍四种高效等离子体源,并讨论这一领域亟待解决的问题。
Discuss the role of plasma etching and its plasma sour
【机 构】
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中国科学院力学研究所 北京 100080
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讨论等离子体刻蚀及其等离子体源在微电子工业中的作用,介绍四种高效等离子体源,并讨论这一领域亟待解决的问题。
Discuss the role of plasma etching and its plasma source in the microelectronics industry, introduce four efficient plasma sources, and discuss the pressing issues in this area.
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