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介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制人和二元和连续元件中所存在差别；导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围，并以此指导面形的控制，对光刻胶进行适当的发行以适应连续微光学元件的制作。本文还给出实验验证，制作了多种质量优良的微光学元件，并对典型元件的面形进行了评价。