【摘 要】
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采用多弧离子镀技术在WC基硬质合金基体上制备了TiAlN镀层,利用扫描电镜、扫描探针显微镜、X射线衍射仪、努氏显微镜硬度计、划痕仪等分析设备对镀层的形貌、粗糙度、结构和
【机 构】
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河北工程大学机电学院,邯郸职业技术学院机电系
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采用多弧离子镀技术在WC基硬质合金基体上制备了TiAlN镀层,利用扫描电镜、扫描探针显微镜、X射线衍射仪、努氏显微镜硬度计、划痕仪等分析设备对镀层的形貌、粗糙度、结构和性能进行了分析。结果表明,WC基硬质合金基体上沉积的TiAlN镀层表面粗糙,平均粗糙度高达272.2nm,而且镀层液滴的方向都向着圆心。TiAlN镀层显微硬度达到3208HK,镀层与硬质合金基体之间的临界载荷最大为56.42N。镀层的划痕沟比较平直,只在接近结束端时才出现密集而细小的裂纹,但是没有膜基开裂现象。切削试验表明,带镀层的硬质合金
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