高精密度平行光曝光机图形转移技术

• 作 者: 黄志远 张建军 粱四连 杨小健 王泽宇 朱萌 何为
• 机 构: 铜陵市超远精密电子科技有限公司,安徽铜陵,244000;电子科技大学微电子与固体电子学院,四川成都,610054
• 出 处: 印制电路信息
• 发表日期: 2004年期
• 关键词: PCB parallel exposure machine imaging

随着电子产品高精度成像的需求，对印制电路板的设计与制造的要求也越来越高。这推动了PCB生产所需的曝光设备的研制。为此研发出平行光曝光设备是制作密集细线路的关键。文章介绍了平行曝光机工作原理，解析了高精密度平行光曝光机图形转移技术要点，＆nPCB粗糙度、贴膜、曝光、显影等。实验结果表明：可1,7,A,k原来的0．127mm／O．127mm（5mil／5mil）线路能力提升到O．05ram／0．05mm（2mil／2mil）能力，实现了向精细线路的大跨越，为制作高精密度线路板提供了强大的技术基础。，