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论述了使用透射电镜来研究氧沉淀的形态与热处理温度和时间的关系.对氧沉淀的生成动力学,研究的现状和存在的问题以及发展前景也进行了讨论.
直拉硅中氧沉淀的TEM研究
【摘 要】
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论述了使用透射电镜来研究氧沉淀的形态与热处理温度和时间的关系.对氧沉淀的生成动力学,研究的现状和存在的问题以及发展前景也进行了讨论.
【机 构】
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浙江大学硅材料国家重点实验室
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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2002年3期
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