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【摘 要】
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以四异丙醇钛、三甲基铝和去离子水分别为钛源、铝源和氧源,低温条件下用原子层沉积(ALD)技术在FTO导电玻璃上制备TiO2薄膜和掺杂不同比例元素Al的TiO2 (ATO)薄膜,并将其作为
【机 构】
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北京印刷学院等离子体物理及材料研究室 北京 102600
【出 处】
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真空科学与技术学报
【发表日期】
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2016年6期
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