用热灯丝辅助化学汽相沉积法在钼基板上沉积金刚石薄膜的研究

• 作 者: 彭希林 廖传美 等
• 机 构: 材料研究室
• 出 处: 北京矿冶研究总院学报
• 发表日期: 1992年1期
• 关键词: 金刚石膜 热灯丝化学汽相沉积 拉曼光谱 钼基板 HFACVD Diamond thin film HFACVD Raman spectrum

用热灯丝辅助化学汽相沉积（HFACVD）法，以H2＋CH4为原料在钼基板上沉积出了金刚石膜。用扫描电镜，X射线衍射，激光Raman光谱和光荧光谱对所得金刚石膜进行了分析。实验结果表明，钼基板表面先生成了1层Mo2C，然后，金刚石再在此Mo2C上形核生长。所沉积的金刚石膜中仍含有一定的SP^2态碳和中性空缺等缺陷。