钎焊金刚石薄壁钻钻磨氮化硅陶瓷孔的试验研究

• 作 者: 丁金 董海 白鹤鹏 张野
• 机 构: 大连理工大学机械工程学院
• 出 处: 金刚石与磨料磨具工程
• 发表日期: 2016年2期
• 关键词: 单层钎焊金刚石薄壁钻 氮化硅陶瓷 去除机理 加工效率 single-layer thin-wall brazed diamond drill silicon n

使用单层钎焊金刚石薄壁钻,进行钻磨氮化硅陶瓷的试验。首先研究氮化硅陶瓷材料的去除机理,主要包括脆性去除和塑性去除,且脆性去除占主要部分。其次研究刀具壁厚、主轴转速和钻压对加工效率的影响。结果表明：三个参数存在的最佳值分别为1.5 mm、710 r/min和613 N；并且壁厚不宜超过2 mm,主轴转速不宜超过900 r/min,钻压应在500~705 N 范围内,钻压低于330 N 时刀具会打滑。