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采用低压等离子喷涂技术在镍基单晶高温合金上制备了NiCoCrAlYTa涂层，通过不同的真空热处理和预处理制度研究其对涂层／镍基单晶界面的影响。结果表明，1080℃真空热处理界面扩散带均产生胞状再结晶体，而1000℃和850℃无再结晶产生。预处理时喷砂压力大于0．2MPa，在1080℃，6h热处理后再进行850℃，24h时效处理界面扩散带均产生再结晶体，无喷砂时无再结晶产生。同时热处理后界面处出现元素的相互扩散及富Ta的Ni2Ta和Cr2Ta相，Ta在胞状晶内偏聚。