论文部分内容阅读
以Marangoni效应为基础的IPA干燥技术在衬底抛光片的干燥中遇到了瓶颈，即干燥后出现水痕缺陷。Marangoni干燥过程中，抛光片表面的水符合重力场下的杨方程模型，其脱离效果与晶片提拉速率和IPA流量密切相关。研究中发现，IPA流量在20L／min、提拉速率在lmm／s时干燥效果最佳；另外，Marangoni干燥过程不能完全去除晶片底部的残水．需要营造合适的蒸发环境，减压排风下供给适量的IPA蒸汽有助于底部残水的去除。晶片与花篮在干燥过程中有相互影响，完全分离的模式可以消除这种影响，但同时会使干燥时