Amorphous Silicon Films Prepared by Catalytic Chemical Vapor Deposition Method

来源 :Semiconductor Photonics and Technology | 被引量 : 0次 | 上传用户：yangweifeng111222

【摘要】

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ＡｍｏｒｐｈｏｕｓＳｉｌｉｃｏｎＦｉｌｍｓＰｒｅｐａｒｅｄｂｙＣａｔａｌｙｔｉｃＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎＭｅｔｈｏｄ①②ＺＨＯＮＧＢｏｑｉａｎｇ，ＨＵＡＮＧＣｉｘｉａｎｇ，ＰＡＮＨｕｉｙｉｎｇ（ＳｈａｎｇｈａｉＩｎｓｔｉｔｕｔｅ... Amorphous Silicon FilmsPrepared byCatalyticChemicalVaporDepositionMethod① ② ZHONG Boqiang, HUANGCixiang, PANHuiying (Shanghai

【出处】

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Semiconductor Photonics and Technology

【发表日期】

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1998年01期

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