低温下水汽在Si(111)7×7表面上的化学吸附

• 作 者: 朱福荣 罗艳生 戴道宣
• 机 构: 复旦大学表面物理实验室,复旦大学表面物理实验室,复旦大学表面物理实验室
• 出 处: 物理学报
• 发表日期: 1989年02期
• 关键词: 化学吸附 退火温度 硅表面 结合能 解离 下水 吸附机制 暴露量 低温 表面吸附

用ELS和XPS研究了低温下水汽在Si(111)7×7表面上的化学吸附及其随退火温度的变化。150K低温下水以解离形式吸附在Si(111)7×7表面。

The chemisorption of water vapor on Si (111) 7 × 7 surface at low temperature and its variation with annealing temperature were studied by ELS and XPS. Water at 150K is dissociated into Si (111) 7 × 7 surface.