条形射频源大口径离子束刻蚀机性能(英文)

• 作 者: 董晓浩 刘颖 赵飞云 徐德权 徐向东 周银贵 汪啸 姚传荣 洪义麟 付绍军 徐朝银
• 机 构: 中国科学技术大学国家同步辐射实验室,中国科学技术大学国家同步辐射实验室,中国科学技术大学国家同步辐射实验室,中国科学技术大学国家同步辐射实验室,中国科学技术大学国家同步辐射实验室,中国科学技术大学国家
• 出 处: 中国科学技术大学学报
• 发表日期: 2007年Z1期
• 关键词: 离子束刻蚀 条形 束流 离子束刻蚀机 条形射频离子源 束流密度均匀性 衍射光学元件 射频源 均匀性 束阑

针对大尺寸基底往复扫描条形离子束来实现大面积刻蚀的特点,实验测试了基于射频感应耦合等离子体离子源大型离子束刻蚀机的性能.利用法拉第筒扫描探测系统在线测量束流密度,通过控制气体流量、调节加速电压等,得到了纵向束流密度±5.3%均匀性的较好结果.刻蚀实验表明40 cm长度范围刻蚀深度均匀性为±5.4%,同时具有较好的束流稳定性.添加束阑,并结合掩模修正束流,会得到更好的束流密度与刻蚀深度均匀性.

In order to realize the large-area etching of the stripe ion beam with a large-size substrate reciprocating scanning, the performance of the large-scale ion beam etching machine based on the RF inductively coupled plasma ion source was experimentally tested. The beam density , Good results of ± 5.3% uniformity of vertical beam current density were obtained by controlling the gas flow rate, adjusting the accelerating voltage, etc. The etching experiments showed that the depth of uniformity of the etching depth is 40%, and the uniformity of etching depth is good Beam stability. Adding a beam stop, combined with the mask correction beam, will get better beam density and etch depth uniformity.