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磁控溅射镀膜技术近年来发展很快,各种类型的装置不断出现。本文将对此技术进行初步探讨,以进一步弄清磁控溅射镀膜技术的物理机制,促进这一新兴技术的发展。 磁控溅射装置中的等离子体是一种磁约束等离子体,可以用磁流体力学(MHD)理论很好地描述,用理想气体状态方程进行截断,得MHD方程组是:
磁控溅射镀膜的等离子体物理机制的探讨
【摘 要】
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磁控溅射镀膜技术近年来发展很快,各种类型的装置不断出现。本文将对此技术进行初步探讨,以进一步弄清磁控溅射镀膜技术的物理机制,促进这一新兴技术的发展。 磁控溅射装置中
【出 处】
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湖北民族学院学报：自然科学版
【发表日期】
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1991年1期
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