【摘 要】
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光气作为重要的化工原料,在生产和使用中由于防护不当经常发生急性中毒.光气的主要毒性作用是引起肺水肿,出现气道功能和结构的改变.迄今对光气中毒肺水肿的中毒机制见解不一
【机 构】
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第四军医大学预防医学系毒理学教研室
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光气作为重要的化工原料,在生产和使用中由于防护不当经常发生急性中毒.光气的主要毒性作用是引起肺水肿,出现气道功能和结构的改变.迄今对光气中毒肺水肿的中毒机制见解不一,临床诊治亦无特效措施[1,2].本研究从对维持正常肺功能发挥重要作用的肺泡Ⅱ型上皮细胞(AT-Ⅱ细胞)入手,利用基因芯片技术,从分子水平探讨光气中毒损伤的基因改变,为进一步研究光气中毒机制提供新线索,同时为临床诊治探讨新思路.
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