国产IC光刻系统精密紫外反光镜研制成功

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沈阳仪表科学研究院经过2年多的技术攻关,成功研制出了拥有自主知识产权的集成电路(IC)光刻系统精密紫外反光镜产品,其关键技术指标达到国际先进水平。该IC光刻系统精密紫外反光镜产品可耐450℃高温,利用自主研发的新工艺实现了非球面成形。其反射波长范围为300nm~440nm,反射率大于95%,达到 After more than two years of technical research, Shenyang Instrument Research Institute successfully developed the precision UV mirror products of integrated circuit (IC) lithography system with independent intellectual property rights. Its key technical indicators have reached the international advanced level. The IC lithography precision UV mirror products can withstand 450 ℃ high temperature, the use of independent research and development of new technology to achieve the aspheric shape. Its reflection wavelength range of 300nm ~ 440nm, reflectance greater than 95%, to achieve
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