【摘 要】
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非晶硅的二步快速退火固相晶化董会宁，杜开瑛，谢茂浓（物理系）我们采用二步退火法，对由等离子增强化学汽相淀积法（ＰＥＣＶＤ）制备的ａ－Ｓｉ：Ｈ膜进行退火处理，并观察了其晶化效果，由于二步快速退火方式与通
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非晶硅的二步快速退火固相晶化董会宁，杜开瑛，谢茂浓（物理系）我们采用二步退火法，对由等离子增强化学汽相淀积法（ＰＥＣＶＤ）制备的ａ－Ｓｉ：Ｈ膜进行退火处理，并观察了其晶化效果，由于二步快速退火方式与通常固相晶化退火法相比，可大大缩短退火时间，因此具有...
Two-step Rapid Annealing Solid-state Crystallization of Amorphous Silicon Dong Huining, Du Kaiying, Xie Maoon (Department of Physics) A two-step annealing method was used to fabricate a-Si: H The film is annealed and its crystallization effect is observed. As the two-step rapid annealing method can greatly shorten the annealing time compared with the usual solid-state crystallization annealing method, it has the advantages of ...
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