Quantification of trace amounts of impurities in high purity cobalt by high resolution inductively c

• 作 者: XIE Hualin HUANG Kelong NIE Xi
• 机 构: SchoolofChemistryandChemicalEngineering,DepartmentofChemistry
• 出 处: 稀有金属：英文版
• 发表日期: 2007年3期
• 关键词: 高纯度钴 等离子体 光谱测定术 杂质跟踪 分辨率 high resolution inductively coupled plasma mass spectro
• 基金项目: This study was financially supported by the Natural Science Foundation of Hunan Province, China （No. 05JJ40017）.

用高分辨率的一个分析方法诱导地为 24 个元素的快速的同时的决心联合了血浆质谱分析法( HR-ICP-MS )(， Mg ，艾尔， Ti ， V ， Cr ， Mn ， Fe ， Ni ， Cu ， Zn ， Ga ， Ge ，同样 Se ，瞬间， Ag ， Cd ， Sn ， Sb ， Ba ，磅， Au ，和 Pb )在高纯净，钴被描述。样品消化用 HNO3 和 HCI 在关上的微波容器被执行。因为过量 HCI 和公司的存在，基质效应被评估。为克服一些的高集体的分辨率的实用性光谱干扰被表明。为决心的最