利用钛保护层在ITO电极上直接制备大面积的超薄氧化铝膜

• 作 者: 肖立新 段来强 柴俊一 王芸 陈志坚 曲波 龚旗煌
• 机 构: 北京大学物理学院
• 出 处: 物理化学学报
• 发表日期: 2011年3期
• 关键词: 阳极氧化铝 薄膜 氧化铟锡透明电极 钛保护层 磁控射频溅射 Anodic aluminum oxide Ultrathin film ITO transpa
• 基金项目: supported by the National Found for Fostering Talents of Basic Science（NFFTBS）（J0630311）, National Natural Science Foundation of China（10934001 60907015 10821062）, National Key Basic Research Program

通过磁控溅射并引入钛保护层,利用在0.3mol·L^-1硫酸中20V电压下二次阳极氧化,在氧化铟锡（ITO）导电玻璃衬底上直接制备了超薄（约140nm,为阳极氧化前Al厚度的一半）、大面积（约4cm^2）的多孔阳极氧化铝（AAO）.扫描电子显微镜结果表明生成的微孔与衬底垂直,孔径和孔间距分别约为30和60nm.我们发现钛保护层的作用是提高了Al层的附着性并且防止ITO被腐蚀,在此体系中钛不能被其它的金属如铬、金、银或铜代替.紫外-可见光谱透过率结果显示在阳极氧化过程中Ti被氧化成为透明的TiO2