【摘 要】
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随着半导体工业的迅速发展,具有易对准、针孔少、反光小、边缘锐度高、抗磨性能好、分辨率高等优点的氧化铁半透明掩模也迅速发展起来。制备氧化铁掩模的方法有许多种,归纳
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随着半导体工业的迅速发展,具有易对准、针孔少、反光小、边缘锐度高、抗磨性能好、分辨率高等优点的氧化铁半透明掩模也迅速发展起来。制备氧化铁掩模的方法有许多种,归纳起来,主要有下述三种:(1)由五羰基铁[Fe(CO)_5]的化学汽相淀积(CVD);(2)反应溅射法;(3)金属有机化合物的热分解。用聚乙烯二茂铁(以下简称 PVFc)制备半透明掩模就是金属有机化合物热分解的一种。
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