离子注入硅的微均匀性测量

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【摘要】

：

离子注入硅的微均匀性测量＝Ｍｉ－ｃｒｏｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓｏｆｉｏｎｉｍｐｌａｎｔｅｄｓｉｌｉ－ｃｏｎ［刊，英］／Ｃｕｒｒｅｎｔ．Ｍ．Ｉ．…∥ＳｏｌｉｄｓｔａｔｅＴｅｃｈ－ｎｏｌ，－１９９３．３６（７）．－１１１～１１９讨论了... Micro-uniformity measurement of ion implanted silicon = Mi-crouniformity measures of ion implantedsili-con [Journal o

【出处】

：

微电子学

【发表日期】

：

1994年02期

【关键词】

：

均匀性离子注入薄层电阻扩展电阻热波旋转盘空间规模估计值卢瑟福背散射

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