【摘 要】
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本文介绍一种可适用于金属表面改性用的溅射离子源。采用双层热屏蔽套,在相同的引出总束流前提下,可相应减小灯丝加热功率。初步调试结果,引出的靶上总束流:氮离子达10mA;氩
【机 构】
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四川大学七二○所,四川大学七二○所,四川大学七二○所
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本文介绍一种可适用于金属表面改性用的溅射离子源。采用双层热屏蔽套,在相同的引出总束流前提下,可相应减小灯丝加热功率。初步调试结果,引出的靶上总束流:氮离子达10mA;氩离子1mA;铜离子达100μA;钛离子30μA。
This article describes a sputtering source suitable for metal surface modification. With double thermal shield, under the premise of the same lead-out total beam, the heating power of the filament can be reduced accordingly. Preliminary commissioning results, leads to the total target beam: nitrogen ion up to 10mA; argon ion 1mA; copper ions up to 100μA; titanium ions 30μA.
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