【摘 要】
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采用化学镀法在NiTi形状记忆合金基体表面镀覆CoNiWP磁性薄膜.用扫描电镜表征镀层形貌,结果表明,化学镀开始初期,镀层颗粒比较细微(直径1～10μm),后来逐渐长大成胞状结构(直径
【机 构】
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武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室
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采用化学镀法在NiTi形状记忆合金基体表面镀覆CoNiWP磁性薄膜.用扫描电镜表征镀层形貌,结果表明,化学镀开始初期,镀层颗粒比较细微(直径1～10μm),后来逐渐长大成胞状结构(直径10～40μm),而镀层在基体上的产生是从催化活性比较高的部位开始产生,然后逐渐向整个基体表面蔓延,进而覆盖整个表面.用振动磁强计测试样品的磁性能,结果表明,镀覆的金属薄膜是无定形结构并具有较好的磁性能,其矫顽力是随化学镀进程逐渐增大到一定值后再逐渐下降.
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