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本文简要介绍了契合当今微电子行业发展要求的低轮廓铜箔和无轮廓铜箔的发展现状，列举了一些国际知名铜箔制造厂生产的该类铜箔的性能指标，同时也提供了国外科研机构在铜箔生产中使用钯系催化剂的研究成果。
高性能铜箔的研发以及有机添加剂的应用
【摘 要】
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本文简要介绍了契合当今微电子行业发展要求的低轮廓铜箔和无轮廓铜箔的发展现状，列举了一些国际知名铜箔制造厂生产的该类铜箔的性能指标，同时也提供了国外科研机构在铜箔生产
【机 构】
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江铜-耶兹铜箔有限公司,南昌大学理学院化学系
【出 处】
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江西化工
【发表日期】
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2008年3期
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