脉冲激光溅射及富-锆PZT薄膜的性能研究

来源 :仪器仪表学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：fdghghjhghjjh

【摘要】

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采用脉冲激光溅射方法将PZT/YBCO沉积在LaAlO3(LAO)基底上,所选择的烧结靶材是Pb(Zr0.94Ti0.06)O3+2%Bi2O3.沉积YBCO和PZT薄膜的基底温度分别为710℃和570℃.整体结构PZT/YBC

【作者】

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彭润玲

【机构】

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上海理工大学上海200093

【出处】

：

仪器仪表学报

【发表日期】

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2003年z2期

【关键词】

：

PZT 薄膜铁电脉冲激光溅射 X射线衍射 PZT Thin films Ferroelectric Pulsed laser deposition

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采用脉冲激光溅射方法将PZT/YBCO沉积在LaAlO3(LAO)基底上,所选择的烧结靶材是Pb(Zr0.94Ti0.06)O3+2%Bi2O3.沉积YBCO和PZT薄膜的基底温度分别为710℃和570℃.整体结构PZT/YBCO/LAO在600℃的基底温度下退火15min.本文通过X射线衍射分析观察了薄膜的结晶状态,利用P-V曲线估计PZT薄膜的电学性质,并测量出薄膜的介电常数与频率(ε-f)以及介电损耗与频率(tanδ-f)的关系曲线.

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