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扩散前清洗工艺与设备
扩散前清洗工艺与设备
来源 :中国集成电路 | 被引量 : 0次 | 上传用户:shi893932393
【摘 要】
:
随着国际经济形势的好转,IC相关产业在未来的几年内将会得到迅猛的发展,而清洗设备作为IC生产线上不可或缺的构成部分,也将会有巨大的市场前景。半导体硅片生产工艺的全过程
【作 者】
:
王锐亭
【机 构】
:
北京七星华创微电子设备分公司清洗所所长
【出 处】
:
中国集成电路
【发表日期】
:
2002年3期
【关键词】
:
硅片
清洗槽
去离子水
水冲洗
清洗设备
清洗工艺
杂质粒子
工艺与设备
扩散
清洗机
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随着国际经济形势的好转,IC相关产业在未来的几年内将会得到迅猛的发展,而清洗设备作为IC生产线上不可或缺的构成部分,也将会有巨大的市场前景。半导体硅片生产工艺的全过程都与清洗有关,硅片清洗工艺的多样性,决定清洗设备的不同选
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