【摘 要】
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<正> SEM电子光学系统的自动设计需要在未知磁透镜系统中追踪实际电子轨迹,根据象评介方法进行平衡和修正,最终输出各个设计参量。由于计算量巨大,目前还无法实现。但它又是
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<正> SEM电子光学系统的自动设计需要在未知磁透镜系统中追踪实际电子轨迹,根据象评介方法进行平衡和修正,最终输出各个设计参量。由于计算量巨大,目前还无法实现。但它又是电镜设计者所迫切需要的,因为它能使系统设计达到最优状态,并可提高设计效率。为了调和矛盾,我们设想将自动设计分为磁透镜的CAD和电子光学光路的自动设计。在光路自动设计时不再对磁透镜进行优选。同时由于SEM实际电子轨迹能较好地满足傍轴要求,故可采用几何电子光学和三级象差理论计算,使问题大为简化。我们看到,光路自动设计一开始就陷入矛盾
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