【摘 要】
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采用反应磁控溅射方法制备SiOx/Cr-N-O/Al选择性吸收涂层,该涂层太阳吸收比为95.9％、发射比3.8％、吸收发射比25.2.结合光学显微镜微观形貌分析、X射线衍射结构分析(XRD)、X射线
【机 构】
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绿色建筑材料国家重点实验室,中国建筑材料科学研究总院,北京100024
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采用反应磁控溅射方法制备SiOx/Cr-N-O/Al选择性吸收涂层,该涂层太阳吸收比为95.9％、发射比3.8％、吸收发射比25.2.结合光学显微镜微观形貌分析、X射线衍射结构分析(XRD)、X射线光电子能谱成分分析(XPS)探讨涂层在250和400℃大气环境下热稳定性机理:250℃大气热处理后,涂层保持较高光谱选择性,表面形貌与物相结构未出现明显变化,SiOx层氧化程度增大导致太阳吸收比升高,金属Cr和金属Al相互扩散导致发射比升高;400℃大气热处理后,涂层光谱选择性降低,表面出现微米级孔洞,XRD及XPS结果表明Cr-N-O吸收层被氧化,导致太阳吸收比降低,金属Cr和金属Al相互扩散导致发射比明显升高.
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