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实验合成了锆交联蒙脱土,并用XRD、DTA、TG、IR等手段,对锆交联蒙脱土的热稳定性和结构特性进行了研究。锆交联蒙脱土的层间距d001为1.8nm,即使加热到500℃,虽然001峰强度降低,d001仍保持在1.64nm。DTA结果表明锆交联蒙脱土样品比原土易失去结构羟基。骨架振动红外光谱也表明锆交联蒙脱土样品Si—O键振动频率及强度随处理温度的变化更明显。