论文部分内容阅读
用磁控溅射在柔性衬底上制备金属镍纳米薄膜,研究了磁场对薄膜样品的形貌的影响,分析了在有无磁场条件下制备的薄膜样品的X衍射,饱和磁化强度和矫顽力以及在电磁波频段为3.95~5.85 GHz内的电磁屏蔽效果。结果表明,在磁场条件下的制备的薄膜样品要比无磁场条件下制备的薄膜的结晶性好;有外加磁场下制备的薄膜矫顽力为112.89 Oe,无外加磁场条件下制备的薄膜的矫顽力为14.82 Oe,外加磁场下制备的薄膜矫顽力要比无外加磁场条件下制备的薄膜的矫顽力增加7.6倍。磁场下生长的薄膜样品的屏蔽效果明显优于无磁场下薄