【摘 要】
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W02004—960[国际专利申请,德]/德国:Infineon介ehno一ogiesA一0.(seh而dt,Miehael等)一2(X) 3.12.31一50页厂10 227 663(2002.6.20):IPCC09DZOI/10 题述工艺可阻止有害化学
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W02004—960[国际专利申请,德]/德国:Infineon介ehno一ogiesA一0.(seh而dt,Miehael等)一2(X) 3.12.31一50页厂10 227 663(2002.6.20):IPCC09DZOI/10 题述工艺可阻止有害化学品渗透到气孔中,并防止铜离子扩散到中间电介层中,使用带甲硅烷华和特定结构的杂环基的聚合物分别与含硅
W02004-960 [International Patent Application, Germany] / Germany: Infineon and Engels, a ogiesA a 0. (seh dt, Miehael, etc.) a 2 (x) 3.12.31 a 50 page factory 10 227 663 (2002.6.20) IPCC09DZOI / 10 the title of the process to prevent the infiltration of harmful chemicals into the pores and to prevent the diffusion of copper ions into the intermediate dielectric layer, the use of silane with a specific structure of the heterocyclyl polymer and respectively containing silicon
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