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在较温和条件下ＭｏＯ３与ＮＨ３通过局部规整反应合成不同表面积γ－Ｍｏ２Ｎ．通过合成条件探讨，发现ＭｏＯ３颗粒大小、ＮＨ３的空速以及床层加热速率是决定能否获得大表面积γ－Ｍｏ２Ｎ的关键，且随着γ－Ｍｏ２Ｎ表面积增加，其范围在２～３ｎｍ之间的孔径逐渐增加．γ－Ｍｏ２Ｎ的Ｈ２－ＴＰＤ表征表明存在两个Ｈ２脱附峰：一个为γ－Ｍｏ２Ｎ表面吸附，一个为其次表层及体相吸附．噻吩的ＨＤＳ及环已烯的ＨＹＤ活性被测试，结果表明，高表面γ－Ｍｏ２Ｎ的ＨＤＳ，ＨＹＤ性能优于中、低表面γ－Ｍｏ２Ｎ．