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本文着重讨论了摩擦组元ＳｉＯ２对铜基离合片性能的影响，也探讨了铜基体几种添加元素的强化作用。简述了生产工艺参数对性能的影响。
铜基离合片的研制
【摘 要】
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本文着重讨论了摩擦组元ＳｉＯ２对铜基离合片性能的影响，也探讨了铜基体几种添加元素的强化作用。简述了生产工艺参数对性能的影响。
【机 构】
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中南工业大学粉末冶金研究所
【出 处】
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湖南有色金属
【发表日期】
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1996年1期
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