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电磁复合场中电子成像系统的计算机辅助分析
电磁复合场中电子成像系统的计算机辅助分析
来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:y328151006
【摘 要】
:
本文利用数值仿真技术对复合场中电子成像系统的像差理论做了研究。基于一种新的计算方法编写了一套完整的像差计算程序,由此可求得任意初始条件下复合场中电子成像系统的三
【作 者】
:
杨立才
张涛
【机 构】
:
山东工业大学,山东工业大学济南250014,济南250014,济南250014
【出 处】
:
微细加工技术
【发表日期】
:
1991年2期
【关键词】
:
电磁场
电子成像系统
CAD
像差
Electron-optics
Aberration theory
Electron-beam lithography
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本文利用数值仿真技术对复合场中电子成像系统的像差理论做了研究。基于一种新的计算方法编写了一套完整的像差计算程序,由此可求得任意初始条件下复合场中电子成像系统的三级几何像差。其计算精度可比传统软件的提高四倍以上,为高精度电子光路的设计提供了可靠的理论工具。
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