【摘 要】
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针对12英吋晶圆铝PAD刻蚀工艺,华力在业界首创采用美国应用材料公司的Opus型号机台进行工艺开发及导入量产;该机型对工艺开发主要的亮点在于:1)可调节温度静电吸附盘(ESC)的
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针对12英吋晶圆铝PAD刻蚀工艺,华力在业界首创采用美国应用材料公司的Opus型号机台进行工艺开发及导入量产;该机型对工艺开发主要的亮点在于:1)可调节温度静电吸附盘(ESC)的引入使得工艺开发空间更加广阔;2)等离子体去胶刻蚀工艺的引入使得去胶速率极大提高(相当于通常微波去胶工艺刻蚀速率的~2.75倍),从而为提高单机产能提供了保障.但在实际工艺开发及量产应用中,也遇到过一些棘手的问题.本文将就该机型在铝刻蚀工艺开发和量产过程中遇到的"晶片边缘聚合物沉积问题"及解决方案进行简要的介绍.
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