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采用射频（RF）反应共溅射法制备了a-SiOxNy:Er^3+薄膜，在不同温度下进行退火处理，并测量了样品的可见及红外发光PL谱，观察到Er^3+在550nm、525nm和1532nm的发光以及基质在620nm和720nm的发光。发现退火能明显增强Er^3+的发光且对可和红外发光的影响不同，讨论了退火明显增强Er^3+发光及退火对可见和红外发光影响不同的机理，测量了Er^3+可见发光的变温PL谱，讨论了退火对Er^3+不同能级辐射跃迁几率的影响。根据基质发光随退火温度的变化，分析了基质发光峰的起源。