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ＴｉＡｌ镀Ｎｉ－Ｐ后避免阴极腐蚀。氢化物饱和的试样平面应力断裂韧性ＫＣ（Ｈ）比空气中的ＫＣ值低约２０％。含饱和氢化物试样动态充氢时能发生滞后断裂，这是原子氢引起的。氢致滞后断裂门槛值ＫＩＨ和ＫＣ（Ｈ）的比值约为０．７。
TiAl的室温氢致滞后的断裂
【摘 要】
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ＴｉＡｌ镀Ｎｉ－Ｐ后避免阴极腐蚀。氢化物饱和的试样平面应力断裂韧性ＫＣ（Ｈ）比空气中的ＫＣ值低约２０％。含饱和氢化物试样动态充氢时能发生滞后断裂，这是原子氢引起的。氢致滞后断裂门槛值ＫＩＨ和ＫＣ（Ｈ）的比值约为０．７。
【机 构】
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北京科技大学
【出 处】
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金属学报
【发表日期】
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1997年1期
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